ArF Photoresist와 EUVL Photoresist의 식각특성 비교

  • 권봉수 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 이학주 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 이내응 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 이성권 (하이닉스 반도체(주))
  • Published : 2007.08.15

Abstract

Keywords