Photoresist Patterning by Nano Imprint Lithography Process

나노 임프린트 공정을 이용한 포토 레지스트 패터닝

  • 박수연 (과학기술연합대학원대학교) ;
  • 안현진 (한국기계연구원 나노융합기계본부) ;
  • 김영자 (한국기계연구원 나노융합기계본부) ;
  • 이재종 (한국기계연구원 나노융합기계본부)
  • Published : 2009.06.03

Abstract