• 제목, 요약, 키워드: SU-8 포토레지스트

검색결과 7건 처리시간 0.033초

광조형법과 UV 포토리소그래피를 이용한 웨이브 마이크로펌프 미세 채널 제작 (Fabrication of Micro-channels for Wave-Micropump Using Stereolithography and UV Photolithography)

  • 노병국;김우식;심광보
    • 한국정밀공학회지
    • /
    • v.24 no.12
    • /
    • pp.128-135
    • /
    • 2007
  • Micro-channels for a wave micropump have been fabricated using the Stereolithography and UV Photolithography. The micro-channel with a channel height of $500\;{\mu}m$ was fabricated with stereolithography. UV photolithography was used for producing micro-channels with a channel length less than $100\;{\mu}m$. The fabrication process data including spinning rpm, pre-bake and post-bake time, and develop time for single layer and multiple layer 3D micro-structures using SU-8 photo resist are experimentally found. A film mask printed with a 40,000 dpi laser printer was used for UV lithography and micro-structures in the order of tens of micrometers in dimension were successfully fabricated.

반응표면분석을 통한 SU-8 포토레지스트의 특성 및 최적화 (Statistical Characterization and Optimization of SU-8 Photoresist Processing by Response Surface Methodology)

  • 문세영;김광범;소대화;홍상진
    • 한국정보통신학회:학술대회논문집
    • /
    • v.9 no.2
    • /
    • pp.891-894
    • /
    • 2005
  • SU-8은 부드러운 벽면을 가지는 두꺼운 패턴을 제작하는 데 사용되는 음성 감광제(negative photoresist)이다 .이것은 처리 후에 강성이 높고 화학적으로 강인한 장점을 가지고 있으며 최근 MEMS 디바이스의 구조체로 쓰이고 있다. 그러나 SU-8은 공정 처리요소들에 대하여 매우 민감하고 사용하기 어려운 것으로 알려져 있다. 본 연구에서는 공정 처리요소로 exposure energy, post exposure bake (PEB) temperature, PEB time을 조절하여 실험을 하였다. Response Surface Methodology (RSM)를 이용해 각 인자가 delamination에 미치는 영향에 대해 분석하였고 이를 바탕으로 SU-8의 delamination을 최소화하기 위한 처리요소들의 최적화 방안을 제시하였다.

  • PDF

355nm UV 레이저를 이용한 AZ5214와 SU-8 포토레지스트 어블레이션에 관한 연구 (A Study on the Ablation of AZ5214 and SU-8 Photoresist Processed by 355nm UV Laser)

  • 오재용;신보성;김호상
    • 한국레이저가공학회지
    • /
    • v.10 no.2
    • /
    • pp.17-24
    • /
    • 2007
  • We have studied a laser direct writing lithography(LDWL). This is more important to apply to micro patterning using UV laser. We demonstrate the possibility of LDWL and construct the fabrication system. We use Galvano scanner to process quickly micro patterns from computer data. And laser beam is focused with $F-{\theta}$ lens. AZ5214 and SU-8 photoresist are chosen as experimental materials and a kind of well-known positive and negative photoresist respectively. Laser ablation mechanism depends on the optical properties of polymer. In this paper, therefore we investigate the phenomenon of laser ablation according to the laser fluence variation and measure the shape profile of micro patterned holes. From these experimental results, we show that LDWL is very useful to process various micro patterns directly.

  • PDF

SU-8 포토레지스트와 표면 소수처리를 이용한 전기 수력학 노즐 제작 (Fabrication of EHD(Electrohydrodynamic) nozzle using surface hydrophobic coating and SU-8 photoresist)

  • 임병직;이경일;김성현;김선민;이철승;이현주;변상언;조진우
    • 대한전기학회:학술대회논문집
    • /
    • /
    • pp.1706-1707
    • /
    • 2011
  • SU-8 감광제를 이용하여 전기 수력학에 응용할 수 있는 내경 $50{\mu}m$인 평면형 노즐 구조와 외경 $100{\mu}m$, 내경 $50{\mu}m$인 돌출형 노즐 구조를 제작하고 노즐 표면에 불소계 수지를 건식 증착하여 소수 처리를 하였으며 이를 통해 전기수력학 방식의 잉크 토출을 구현하였다.

  • PDF

실험 및 유한요소해석에 의한 SU-8 박막의 Tribological 특성 연구 (Experimental and Finite Element Study of Tribological Characteristics of SU-8 Thin Film)

  • 양우열;신명근;김형만;한상철;성인하
    • 대한기계학회논문집A
    • /
    • v.37 no.4
    • /
    • pp.467-473
    • /
    • 2013
  • 본 연구에서는 SU-8 박막의 마이크로시스템으로의 트라이볼로지적 응용을 목적으로 하여, 원자간 힘 현미경(AFM) 과 콜로이드 프로브를 이용한 실험 및 유한요소해석 기법을 이용하여 SU-8 코팅층의 두께에 따른 트라이볼로지적 특성을 고찰하였다. SU-8 시편은 스핀 코팅기법을 이용하여 두께를 다르게하여 제작하였다. 실험결과 코팅두께가 증가함에 따라 마찰력과 점착력이 감소하여 박막두께에 따른 차이가 존재함을 알 수 있었고, SU-8 표면이 Si 표면에서보다 더 낮은 점착력과 마찰력을 보여주었다. 또한, 시뮬레이션을 통해 두께별로 박막 파손을 유발시키는 임계하중(압력)이 존재하며, 본 연구에서의 200~800 nm 두께범위에서는 1.2~1.8 GPa 로 측정되었다.