The Effects of Interconnection Geometry on the Electromigration in Al-1%Si Thin Film Metallizations

Al-1%Si 박막금속화의 Electromigration에 대한 Interconnection Geometry 효과

  • 조형원 (광운대학교 전자재료공학과) ;
  • 김대일 (광운대학교 전자재료공학과) ;
  • 김진영 (광운대학교 전자재료공학과)
  • Published : 1993.07.01