A Study on the Hydrogen Loss for PECVD Silicon Nitride Films during High Energy Ion Beam Irradiation

고 에너지 이온빔에 의한 PECVD 질화규소막 내의 수소 이탈현상에 관한 연구

  • 이중환 (한국전자통신연구소 미세구조연구실) ;
  • 이상환 (한국전자통신연구소 미세구조연구실) ;
  • 박민 (한국전자통신연구소 미세구조연구실) ;
  • 구진근 (한국전자통신연구소 미세구조연구실) ;
  • 조경익 (한국전자통신연구소 미세구조연구실)
  • Published : 1994.05.01