표면처리된 Inp(100) 기판위에 MOCVD법으로 성장된 $TiO_2$ 박막의 물성

• Son, Maeng-Ho (Kyonggi University) ;
• Kim, Eun-Gyu (Korea Institute of Science and Technology) ;
• Min, Seok-Gi (Korea Institute of Science and Technology) ;
• Han, Yeong-Gi (Korea Institute of Science and Technology)

• 손맹호 (경기대학교 물리학과) ;
• 김은규 (한국과학기술연구원 반도체재료연구센터) ;
• 민석기 (한국과학기술연구원 반도체재료연구센터) ;
• 한영기 (한국과학기술연구원 정보전자연구부)

• Published : 1996.02.01

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