TiSi gate 및 텅스텐 B/L spacer용 SiN 박막 증착 공정 개발

  • 이석민 (삼성전자 반도체 연구소 MU 기술개발그룹) ;
  • 김명진 (삼성전자 반도체 연구소 MU 기술개발그룹) ;
  • 김석식 (삼성전자 반도체 연구소 MU 기술개발그룹)
  • Published : 1997.02.01