CMOS Retrograde Well 및 Buried Layer 형성시 누설전류 임계거동에 영향을 주는 결함에 관한 연구

  • 장윤택 (홍익대학교 금속·재료공학과) ;
  • 허태훈 (홍익대학교 금속·재료공학과) ;
  • 조재상 (홍익대학교 금속·재료공학과)
  • 발행 : 1997.02.01