Anisotropic Poly-Silicon Etch With $Cl_2/CH_3Br$

  • 이휘건 (삼성 반도체 생산기술 2팀 공정기술 1그룹) ;
  • 이재봉 (삼성 반도체 생산기술 2팀 공정기술 1그룹) ;
  • 윤석훈 (삼성 반도체 생산기술 2팀 공정기술 1그룹) ;
  • 김충환 (삼성 반도체 생산기술 2팀 공정기술 1그룹) ;
  • 곽규환 (삼성 반도체 생산기술 2팀 공정기술 1그룹)
  • 발행 : 1997.02.01