Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference (한국진공학회:학술대회논문집)

The Korean Vacuum Society (한국진공학회)
권호 표지

CF/O2 Plasma를 사용한 ashig 후의 잔류물 제거에 관한 연구

  • 길제성 (삼성전자 반도체총괄 생산기술 2팀 공정 IppJT) ;
  • 이휘건 (삼성전자 반도체총괄 생산기술 2팀 공정 IppJT) ;
  • 곽규환 (삼성전자 반도체총괄 생산기술 2팀 공정 IppJT)
  • Published : 1997.07.01
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Abstract

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