한국전기전자재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference)

한국전기전자재료학회 (The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers)
권호 표지

CoNbZr/Cu/CoNbZr 다층막의 습식 식각에 관한 연구

A Study on the Wet Etching of CoNbZr/Cu/CoNbZr Multi-Layer Films

  • 김현식 (경남대학교 공과대학 무기재료공학과) ;
  • 민복기 (한국전기연구소 비정질재료연구팀) ;
  • 송재성 (한국전기연구소 비정질재료연구팀) ;
  • 이영생 (창원대학교 공과대학 재료공학과) ;
  • 오영우 (경남대학교 공과대학 무기재료공학과)
  • 발행 : 1997.04.01
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초록

스퍼터링법으로 제조한 CoNbZr/Cu/CoNbZr 다층막에 대해 습식 식각법으로 패턴을 형성하기 위해 새로운 식각 용액을 제조하여 이 용액의 최적의 식각 조건에 대해 연구하였다. 염기성 수용액은 농도에 관계없이 Cu만을 선택적으로 식각하며 CoNbZr 비정질 박막은 식각하지 않았다. 그러나, 본 연구에서 제조 한 17.5 mol%의 염기성 수용액에 HF를 20 mol% 혼합한 식각 용액으로 CoNbZr/Cu/CoNbZr 다층막을 동시에 식각할 수 있었다. 또한 이 식각 용액은 CoNbZr/Cu/CoNbZr 다층막을 3단계로 식각하고 식각된 단면은 이방성 구조를 가지며, 매우 우수한 식각 특성을 나타내었다.

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