MOCVD Multiwafer Technology for Mass Production Application

  • Hwang, D.H. (Dept. ETRI) ;
  • Do, L.M. (Dept. ETRI) ;
  • Chu, H.Y. (Dept. ETRI) ;
  • Zyung, T. (Dept. ETRI) ;
  • Lee, C.J. (KRICT) ;
  • Holmes, A.B. (Dept. of Chemistry, University of Cambridge) ;
  • Shim, H.K. (Dept. of Chemistry, KAIST) ;
  • Protzmann, H. (AIXTRON) ;
  • Schmitz, D. (AIXTRON) ;
  • Strauch, G. (AIXTRON) ;
  • Heuken, M. (AIXTRON) ;
  • Juergensen, H. (AIXTRON)
  • Published : 1998.08.01