PMD Liner Nitride공정의 최적화를 위한 박막 특성에 관한 연구

A Study for film characteristics to the Optimization of PMD Liner Nitride Process

본 실험에서는 PMD Liner Nitride 공정의 최적화의 일환으로 현재 반도체 제조 공정에서 적용하고 있는 Nitride막들의 특성을 비교 분석함과 더불어 연관 공정인 BPSG 증착 및 Densification과의 관련 여부를 파악하기 위한 시도를 하였다. 특히 Nitride 박막 특성을 결정하는 중요한 요소인 Si-H 결합과 Si-NH-Si 결합의 농도 변화 분석을 위하여 FTIR Area 분석법을 이용하였다. 또한 증착된 Film의 안정성 여부를 판단하기 위하여 발생 가능한 정도의 RF Power 흔들림에 대한 Nitride 막의 Stress 변화 정도를 측정하였다.