Properties of Cu film as a function of Ti thickness in Cu/Ti/$SiO_2$ structure

Cu/Ti/$SiO_2$구조에서 Ti 두께에 따른 Cu 박막의 특성 연구

  • 홍성진 (국민대학교 신소재공학부) ;
  • 이섭 (국민대학교 신소재공학부) ;
  • 양희정 (국민대학교 신소재공학부) ;
  • 고연규 (국민대학교 신소재공학부) ;
  • 이재갑 (국민대학교 신소재공학부)
  • Published : 2002.05.01