한국전기전자재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference)
- 한국전기전자재료학회 2003년도 하계학술대회 논문집 Vol.4 No.1
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- Pages.151-154
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- 2003
FBAR용 AlN/Al/SiO$_2$ /Si 박막의 결정학적 특성에 관한 연구
A study on the crystallographic properties of AlN/Al/SiO$_2$ /Si thin film for FBAR
- Kim, G.H. (Gyeongwon Univ.) ;
- Keum, M.J. (Gyeongwon Univ.) ;
- Choi, H.W. (Gyeongwon Univ.) ;
- Kim, K.H. (Gyeongwon Univ.)
- 발행 : 2003.07.10
초록
AlN/Al/SiO