Thermodynamic Stability and Interface Chemical Reaction in $HfO_2$ Laminate Films

  • 지현배 (한밭대학교 정보통신컴퓨터공학부) ;
  • 이연승 (한밭대학교 정보통신컴퓨터공학부) ;
  • 강희재 (충북대학교 물리학과) ;
  • 신현준 (포항가속기연구소) ;
  • 임관용 (하이닉스반도체)
  • Published : 2003.08.20