DLTS를 이용한 $HfO_2/Al_2O_3/Si$ MOS의 계면 상태에 관한 연구

Investigation of Interface States of $HfO_2/Al_2O_3/Si$ MOS System by Deep Level Trasient Spectroscopy

  • 엄다일 (서울대학교 재료공학부) ;
  • 전인상 (서울대학교 재료공학부) ;
  • 박흥배 (서울대학교 재료공학부) ;
  • 조문주 (서울대학교 재료공학부) ;
  • 황철성 (서울대학교 재료공학부) ;
  • 김형준 (서울대학교 재료공학부)
  • 발행 : 2003.04.18