STI CMP용 세리아 슬러리의 Suspension pH가 CMP공정에 미치는 영향

The Effects of Suspension pH of Ceria Slurry on Chemical Mechanical Polishing for Shallow Trench Isolation

  • 윤필원 (한양대학교 세라믹공학과) ;
  • 김상균 (한양대학교 세라믹공학과) ;
  • 손형민 (한양대학교 세라믹공학과) ;
  • 백운규 (한양대학교 세라믹공학과) ;
  • ;
  • 박재근 (한양대학교 나노 SOI 연구실)
  • 발행 : 2003.04.18