후막 리소그라피용 감광성 Ag 페이스트 개발

Development of Photosensitive Ag Paste for Thick Film Lithography

  • 강나민 (전자부품연구원 고주파재료연구센터) ;
  • 박성대 (전자부품연구원 고주파재료연구센터) ;
  • 강남기 (전자부품연구원 고주파재료연구센터) ;
  • 임진규 (한양대학교 화학과) ;
  • 박종철 (전자부품연구원 고주파재료연구센터)
  • 발행 : 2003.10.17