원자층 증착법을 이용한 알루미늄 옥사이드 특성 연구

Characteristics of Aluminum Oxide Films Grown by Atomic Layer Deposition from TMA and $H_2O$ Precursors

  • 서동찬 (연세대학교 세라믹공학과) ;
  • 이동원 (연세대학교 세라믹공학과) ;
  • 김용석 (연세대학교 세라믹공학과) ;
  • 고대홍 (연세대학교 세라믹공학과)
  • 발행 : 2003.10.17