Effect of Ti concentration on the thermal and electrical stability of the magnetic tunnel junction with a Ti-alloyed Al-oxide barrier

Ti를 첨가한 Al-oxide 배리어를 이용한 자기 터널 접합에서 Ti 조성에 따른 열적, 전기적 안정성에 관한 연구

  • 송진오 (고려대학교 공과대학 재료공학부) ;
  • 이성래 (고려대학교 공과대학 재료공학부)
  • Published : 2004.12.01