Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers (한국전기전자재료학회)
권호 표지

Comparison of Photoelectrode Properties Between $TiO_2$ Thin films Doped with Tantalum and Dispersed with Nanosize Gold

탄탈륨 도핑 및 나노사이즈의 금입자분산된 $TiO_2$ 박막에서의 광전극 특성 비교

  • Yoon, Jong-Won (Center for Intelligent & Intergrated Port Management System (CIIMPS)) ;
  • Jung, Kyung-Han (Department of Electrical Eng. Dong-A University) ;
  • Koshizaki, Naoto (Nanoarchitectonics Research Center (NARC) in National Institute of Advanced Industrial Sciecnce and Technology (AIST)) ;
  • Kwon, Young-Soo (Center for Intelligent & Intergrated Port Management System (CIIMPS))
  • 윤종원 (동아대학교 지능형통합항만관리연구센터) ;
  • 정경한 (동아대학교 전기공학과) ;
  • ;
  • 권영수 (동아대학교 지능형통합항만관리연구센터)
  • Published : 2004.07.05
Download PDF
⟨ Previous Next ⟩

Abstract

본 연구에서는 Ta이 도핑된 $TiO_2$와 $Au/TiO_2$ nanocomposite 박막을 co-sputtering법으로 제작하였다. Ta-doped $TiO_2$ 박막은 금흥석(rutile)에서 아나타제 상으로 변하는 구조를 유도하는 고용체를 형성했다. $Au/TiO_2$ nanocomposite film의 경우에는, 지름이 약 15 nm인 Au particles들이 $TiO_2$ matrix에 균질하게 분포되었다. Ta가 도핑된 $TiO_2$ 전극과 $Au/TiO_2$ 나노 콤포사이트 전극의 anodic photocurrents가 UV뿐만 아니라 가시광선 영역에서도 관찰되었다. Ta이 도핑된 $TiO_2$ 전극과 $Au/TiO_2$ 나노 콤포사이트 사이의 가시광선 영역에서 photoresponse는 계면 상태로 부터의 bandgap의 감소와 전자의 photoexcitation 때문이다.

Keywords