Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)
- 2004.07b
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- Pages.1129-1133
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- 2004
Modeling of plamsa etch process using a radial basis function network
레이디얼 베이시스 함수망을 이용한 플라즈마 식각공정 모델링
- Park, Kyoung-Young (Sejong University, Electronic Engineering) ;
- Kim, Byung-Whan (Sejong University, Electronic Engineering) ;
- Lee, Byung-Teak (Chonnam University, Materials Science & Engineering)
- Published : 2004.07.05
Abstract
반도체공정 최적화에 소요되는 시간과 경비를 줄이기 위해 신경망 모델이 개발되고 있다. 주로 역전파 신경망을 이용하여 모델이 개발되고 있으며, 본 연구에서는 Radial Basis Function Network (RBFN)을 이용하여 플라즈마 식각공정 모델을 개발한다. 실험데이터는 유도결합형 플라즈마를 이용한 Silicon Carbide 박막의 식각공정으로부터 수집되었다. 모델개발을 위해