$O_3$ 공정을 이용한 단원자증착법에 의해 증착한 $TiO_2$ 박막의 구조적${\cdot}$전기적 특성 분석

Atomic Layer Deposition of $TiO_2$ Thin Films Using $O_3$ for Capacitor of Next Generation Memory Devices

  • 발행 : 2004.10.01