ALD로 증착한 Aluminum Titanate 박막의 열처리 온도에 따른 박막 특성 분석

Thermal Annealing Effects on the Structural and Electrical Properties of Aluminum Titanate Films Grown by Atomic Layer Deposition Method

  • 서민하 (서울대학교 재료공학부 유전박막실험실) ;
  • 김성근 (서울대학교 재료공학부 유전박막실험실) ;
  • 황철성 (서울대학교 재료공학부 유전박막실험실)
  • 발행 : 2004.10.01