Effect of Hydrogen Plasma Pre-treatment on Growth of Carbon Nanotubes by a Microwave PECVD Method

마이크로웨이브 플라즈마 화학기상증착장비를 사용하여 합성한 탄소나노튜브의 니켈 촉매층 수소 플라즈마 전처리조건에 따른 성장특성

  • 최원석 (성균관대학교 정보통신공학부) ;
  • 최성헌 (군산대학교 전자정보공학부) ;
  • 홍병유 (성균관대학교 정보통신공학부) ;
  • 김정태 (성균관대학교 정보통신공학부) ;
  • 임동건 (충주대학교 전자공학과) ;
  • 양계준 (충주대학교 전자공학과) ;
  • 박영 (한국철도기술연구원 전기신호연구본부 전력연구팀) ;
  • 김도영 (삼성 SDI MD 본부 개발팀) ;
  • 이재형 (군산대학교 전자정보공학부)
  • Published : 2005.07.07

Abstract

본 논문에서는 탄소나노튜브를 성장시키기 전 과정인 전처리시 촉매 층에 인가되는 마이크로웨이브 파워에 따른 탄소나노튜브의 성장 및 특성 변화를 관찰하였다. 촉매층으로 사용되는 Ni층과 adhesion층으로 사용되는 Ti층은 마그네트론 스퍼터링 방식으로 증착하였고, 탄소나노튜브 성장에는 마이크로웨이브 플라즈마 화학기상 증착기를 사용하였다 탄소나노튜브의 성장특성은 평면과 단면 SEM image를 통하여 관찰하였으며, Raman spectrometer 분석을 통하여 성장된 탄소나노튜브의 구조적 특성을 알아보았다.

Keywords