The Technical Development to make 1.0um Thickness Dielectric Layer Using Spin Coating Method

스핀 코팅 방법을 이용한 1.0um 유전체막 형성 기술 개발

  • 김형호 (삼성전기 중앙연구소 eMD Lab.) ;
  • 신효순 (삼성전기 중앙연구소 eMD Lab.) ;
  • 추호성 (삼성전기 중앙연구소 eMD Lab.) ;
  • 이영일 (삼성전기 중앙연구소 eMD Lab.) ;
  • 김용석 (삼성전기 중앙연구소 eMD Lab.) ;
  • 이정우 (삼성전기 중앙연구소 eMD Lab.)
  • Published : 2005.05.26