A Study on the Effect of Plasma Treatment on Dielectric Layer for the Application of Embedded Thin Film Capacitor

임베디드 박막 캐패시터용 유전막의 플라즈마 처리 효과에 대한 연구

  • 임성택 (삼성전기(주), 중앙연구소, eMD Lab) ;
  • 송원훈 (삼성전기(주), 중앙연구소, eMD Lab) ;
  • 강형동 (삼성전기(주), 중앙연구소, eMD Lab) ;
  • 정율교 (삼성전기(주), 중앙연구소, eMD Lab)
  • Published : 2005.05.26