Preparation of $Al_2O_3/NiO/Al_2O_3$ Multi-layer Films for Nano-Floating Gate Memory by ALD

  • 조원태 (한국화학연구원 박막재료 연구팀) ;
  • 이선숙 (한국화학연구원 박막재료 연구팀) ;
  • 안기석 (한국화학연구원 박막재료 연구팀) ;
  • 정택모 (한국화학연구원 박막재료 연구팀) ;
  • 김윤수 (한국화학연구원 박막재료 연구팀) ;
  • 정동근 (성균관대학교 물리학과) ;
  • 유일환 (홍익대학교 신소재 공학과) ;
  • 황진하 (홍익대학교 신소재 공학과)
  • 발행 : 2006.02.01