한국진공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference)

한국진공학회 (The Korean Vacuum Society)
권호 표지

Mechanism of infinite $Si_3N_4/ArF$ PR etch selectivity during $CH_2F_2/H_2/Ar$ dual frequency capacitively coupled plasma etching of Si3N4 layers

  • 박창기 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 김희대 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 이춘희 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 이내응 (성균관대학교 신소재공학과)
  • 발행 : 2006.08.01
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