Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers (한국전기전자재료학회)
권호 표지

Effect of pulse plasma for thermally hardened photoresist residue removal

플라즈마 충격 방법을 이용한 열경화된 Photoresist 잔여물(residue) 제거 연구

  • Ko, Hoon (Department of Nano & Electronic Physics, Kookmin University) ;
  • Kim, Soo-In (Department of Nano & Electronic Physics, Kookmin University) ;
  • Choi, Soo-Jeong (Department of Nano & Electronic Physics, Kookmin University) ;
  • Lee, Chang-Woo (Department of Nano & Electronic Physics, Kookmin University)
  • 고훈 (국민대학교 나노전자물리학과) ;
  • 김수인 (국민대학교 나노전자물리학과) ;
  • 최수정 (국민대학교 나노전자물리학과) ;
  • 이창우 (국민대학교 나노전자물리학과)
  • Published : 2007.11.01
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Abstract

반도체 소자의 제조 공정 기술이 발전하고 초고집적화가 됨에 따라 소자 선폭도 급속하게 감소하였다. 이로 인하여 기존의 식각 공정에서 식각 후 남은 잔여 Photoresist residue는 소자 생산에 큰 영향이 없었으나 현재 이러한 잔여물은 초고집적 소자에 치명적인 문제를 발생시킬 수 있다. 본 실험에서는 세정액 분자에 플라즈마 충격을 가하여 세정액을 활성화함으로써 기존의 세정액과의 세정능력을 비교 분석하였다.

Keywords