한국전기전자재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference)

한국전기전자재료학회 (The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers)
권호 표지

APCVD법으로 성장된 $TiO_2$ 박막의 광학적 특성

Optical Property of $TiO_2$ Thin Film growing by Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition

  • 심유미 (정보통신공학부, 성균관대학교) ;
  • 이광수 (정보통신공학부, 성균관대학교) ;
  • 이준신 (정보통신공학부, 성균관대학교)
  • Sim, You-Mi (School of Information & Communication Engineering, Sungkyunkwan University) ;
  • Lee, Kwang-Soo (School of Information & Communication Engineering, Sungkyunkwan University) ;
  • Yi, Jun-Sin (School of Information & Communication Engineering, Sungkyunkwan University)
  • 발행 : 2007.11.01
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초록

$TiO_2$ 박막은 좋은 내구성 전기적 특성과 함께 가시광선 영역에서의 높은 투과율, 높은 굴절률을 나타내어 태양전지의 반사 방지막, TFT 절연막, 광학적 필터에 쓰이는 다층 광학적 코팅 재료 등에 쓰이며 높은 이용가치로 인해 이에 대한 많은 연구가 이루어지고 있다. 본 논문에서는 APCVD(Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition)법을 이용하여 $200^{\circ}C$에서 $350^{\circ}C$까지 증착 온도를 변화시키며 $TiO_2$ 박막을 제조할 때 나타나는 광학적 특징 변화에 대한 연구를 수행하였다. 온도가 증가할수록 굴절률은 커지고 $TiO_2$, 박막안의 기공과 결함의 비율은 감소하였다. 광투과율은 UV범위 이후에서 급격한 증가를 보였으며 온도가 증가함에 따라 흡수단이 긴 파장쪽으로 이동하였다. 흡수단의 증가는 광학적 밴드갭과 연관되며 온도가 증가할수록 광학적 밴드갭은 낮아지는 것을 확인할 수 있었다.

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