Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers (한국전기전자재료학회)
권호 표지

A study for properties of AZO thin film prepared to Ar-plasma treatment using ICP-CVD

ICP-CVD에 의해 Ar 플라즈마 처리된 AZO 박막의 표면 거칠기에 관한 연구

  • Bang, Tae-Bok (Department of Electronics Engineering, Catholic University of Daegu) ;
  • Ryu, Sung-Won (Department of Electronics Engineering, Catholic University of Daegu) ;
  • Kim, Deok-Su (Department of Electronics Engineering, Catholic University of Daegu) ;
  • Cho, Do-Hyun (Department of Electronics Engineering, Catholic University of Daegu) ;
  • Rhee, Byung-Roh (Department of Electronics Engineering, Catholic University of Daegu) ;
  • Kim, Jong-Jae (Department of Electronics Engineering, Catholic University of Daegu) ;
  • Park, Seoung-Hwan (Department of Electronics Engineering, Catholic University of Daegu) ;
  • Hong, Woo-Phyo (Department of Electronics Engineering, Catholic University of Daegu) ;
  • Kim, Hwa-Min (Department of Electronics Engineering, Catholic University of Daegu)
  • 방태복 (대구가톨릭대학교, 전자공학과) ;
  • 유성원 (대구가톨릭대학교, 전자공학과) ;
  • 김덕수 (대구가톨릭대학교, 전자공학과) ;
  • 조도현 (대구가톨릭대학교, 전자공학과) ;
  • 이병로 (대구가톨릭대학교, 전자공학과) ;
  • 김종재 (대구가톨릭대학교, 전자공학과) ;
  • 박승환 (대구가톨릭대학교, 전자공학과) ;
  • 홍우표 (대구가톨릭대학교, 전자공학과) ;
  • 김화민 (대구가톨릭대학교, 전자공학과)
  • Published : 2007.11.01
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Abstract

ICP-CVD(Inductively Coupled Plasma-Chemical Vapor Deposition)를 이용하여 플라즈마 처리에 따른 Al이 도핑된 ZnO(AZO) 박막의 표면 부착력과 굴절율, 표면거칠기에 관한 연구를 하였다. 플라즈마 처리는 인가전압, 시간을 변수로 하였고 반응 가스는 Ar을 사용하였다. 표면조성은 AFM, 광학적 특성은 UV-Vis 분광계를 이용한 광투과도 측정으로부터 굴절률과 밴드갭을 조사하였고 표면 부착력은 접촉각 분석기(제조사:Kruss)를 사용하여 조사하였다. 플라즈마 처리 시간이 길어짐에 따라 박막 표면의 거칠기가 커지고 부착력은 증가하는 것으로 나타났다.

Keywords