The Chemical-Mechanical Coupled modeling on Material Removal Mechanism of Chemical-Mechanical Polishing

집중변수방법을 이용한 화학-기계적 연마공정의 TCM 연성모델

  • 오승희 (중앙대학교 기계공학부 대학원) ;
  • 석종원 (중앙대학교 기계공학부)
  • Published : 2007.06.20