ZnO:F films by magnetron sputter-deposition: A comparison of fluorine sources between $ZnF_2$ containing targets and CF4 containing gas mixtures

• Kim, Yong-Hyeon ;
• Gu, Dae-Yeong ;
• Yun, Hui-Seong ;
• Lee, Gyeong-Seok ;
• Lee, Taek-Seong ;
• Jeong, Byeong-Gi ;
• Seong, Tae-Yeon ;
• Kim, Won-Mok

• 김용현 (고려대학교 신소재공학과) ;
• 구대영 (일동 화학) ;
• 윤희성 (LG 마이크론) ;
• 이경석 (한국과학기술연구원 박막재료연구센터) ;
• 이택성 (한국과학기술연구원 박막재료연구센터) ;
• 정병기 (한국과학기술연구원 박막재료연구센터) ;
• 성태연 (고려대학교 신소재공학과) ;
• 김원목 (한국과학기술연구원 박막재료연구센터)

• Published : 2007.11.02

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