전구체 노출시간을 조절하는 원자층 증착기술(ALD)을 이용한 $ZrO_2$ 나노튜브 성장

• Seong, Nak-Jin ;
• Yun, Sun-Gil ;
• Sin, Ung-Cheol (NCD technology) ;
• Ryu, Sang-Uk

• 성낙진 (충남대학교 나노공학부) ;
• 윤순길 (충남대학교 나노공학부) ;
• 신웅철 ;
• 류상욱 (단국대학교 전자공학과)

• Published : 2007.11.02

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