Dry etching of Polymethyl methacrylate (PMMA) in capacitively coupled $SF_6,\;SF_6/Ar\;and\;SF_6/CH_4$ plasmas

  • 박연현 (인제대학교 나노공학부, 나노메뉴팩쳐링 연구소) ;
  • 주영우 (인제대학교 나노공학부, 나노메뉴팩쳐링 연구소) ;
  • 김재권 (인제대학교 나노공학부, 나노메뉴팩쳐링 연구소) ;
  • 노호섭 (인제대학교 나노공학부, 나노메뉴팩쳐링 연구소) ;
  • 이진희 (인제대학교 나노공학부, 나노메뉴팩쳐링 연구소) ;
  • 이제원 (인제대학교 나노공학부, 나노메뉴팩쳐링 연구소) ;
  • 조관식 (인제대학교 나노공학부, 나노메뉴팩쳐링 연구소) ;
  • 송한정 (인제대학교 나노공학부, 나노메뉴팩쳐링 연구소)
  • Published : 2007.11.02