A study on the synthesis and physical properties of CrN film by magnetic field control

자기장 제어에 따른 CrN 코팅막 합성 및 물성에 관한 연구

  • 명현식 (현대하이스코 기술연구소) ;
  • 박종인 (현대하이스코 기술연구소) ;
  • 김은영 (현대하이스코 기술연구소) ;
  • 전유택 (현대하이스코 기술연구소) ;
  • 나상묵 (현대하이스코 기술연구소)
  • Published : 2007.11.12

Abstract

자기장 제어에 따른 플라즈마 형성 거동 및 코팅 물성간의 상관관계를 알아보기 위해 자기장 시뮬레이션을 수행하여 챔버 내 자력 분포에 따른 CrN 코팅막 물성 변화를 관찰하였다. Cross link type의 자석 배열을 할수록 폐회로(close field)의 자기장 배열을 형성하므로 높은 플라즈마 밀도를 구현할 수 있으며, 우수한 물성을 갖는 CrN이 합성됨을 확인하였다.

Keywords