Low-temperature growth and characterization of epitaxial ZnO nanorods by MOCVD

MOCVD로 성장한 ZnO 나노막대의 저온 성장과 특성평가

  • 김동찬 (성균관대학교, 신소재공학과) ;
  • 공보현 (성균관대학교, 신소재공학과) ;
  • 조형균 (성균관대학교, 신소재공학과) ;
  • 박동준 (한국과학기술원, 신소재공학과) ;
  • 조형균 (한국과학기술원, 신소재공학과)
  • Published : 2007.04.05

Abstract

여러 가지 응용분야에서 많은 기대를 안고 있는 ZnO를 MOCVD 장비를 이용하여 일차원의 나노막대 구조를 $330^{\circ}C$의 저온에서 성장하였다. 이러한 성장온도는 기존 나노막대 성장에 비해 낮은 온도이며, 그 특성평가로 전계방출 특성평가를 하였다.

Keywords