한국표면공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference)

한국표면공학회 (The Korean Institute of Surface Engineering)
권호 표지

Remote Plasma Etching of Photoresist Using Pin-To-Plate Dielectric Barrier Discharge

  • 박재범 (성균관 대학교, 신소재 공학부 플라즈마 장치 및 공정기술 연구실) ;
  • 경세진 (성균관 대학교, 신소재 공학부 플라즈마 장치 및 공정기술 연구실) ;
  • 염근영 (성균관 대학교, 신소재 공학부 플라즈마 장치 및 공정기술 연구실)
  • 발행 : 2007.04.05
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초록

DBD type을 이용한 remote plasma에서 발생된 대기압 플라즈마를 이용하여, PR에 대한 식각 실험을 진행하였다. 과거 습식 화학적 공정에서 오던 기술적 제한의 극복과 진공 플라즈마 가지는 단점을 극복하기 위해 대기압 플라즈마를 이용한 건식 세정에 관한 연구를 진행하였고, 이 때 Gas는 $N_2/O_2$+$SF_6$ 의 조합으로 사용하였으며, 각 gas의 유량에 다른 remote 플라즈마의 전기적, 광학적 특성에 대해 관찰하였다.

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