실리콘 웨이퍼 연마에서 패드 열화 특성에 관한 연구

Characteristics of Pad Deterioration in Silicon Wafer Polishing

  • 이상직 (부산대학교 정밀기계공학과) ;
  • 정석훈 (부산대학교 기계공학부 정밀가공시스템) ;
  • 박기현 (부산대학교 정밀기계공학과) ;
  • 정해도 (부산대학교 기계공학부)
  • 발행 : 2008.06.11