Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Surface Engineering (한국표면공학회)
권호 표지

톨루엔-TEOS를 이용한 유무기 복합 플라즈마 폴리머 박막의 저유전 박막으로서의 특성 연구

  • Jo, Sang-Jin ;
  • Bae, In-Seop ;
  • Trieu, Nguyen ;
  • Bu, Jin-Hyo
  • 조상진 (성균관대학교, 화학과) ;
  • 배인섭 (성균관대학교, 화학과) ;
  • ;
  • 부진효 (성균관대학교, 화학과)
  • Published : 2008.11.19
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Abstract

Ultralow-k 물질은 반도체 성능향상에 있어서 필요한 물질이다 [1]. 이를 위하여 본 실험은 톨루엔과 일반적인 SiO 박막을 제조하는 데 사용되어 지는 TEOS (tetraethyl orthosilicate)를 co-depo.하여 유무기 복합 박막을 PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition)법을 이용하여 증착하였다. 얻어진 박막은 IR과 nano-indentation과 capacitance의 측정을 통하여 측정되었다. 이를 통하여 co-depo.를 통한 유무기 복합 박막이 기존의 CVD법을 이용한 저유전 박막보다 우수한 기계적 특성을 가짐을 확인하였다.

Keywords