The Etch rate Effect of Additive Gas In $ZrO_2$ Thin Film Using $Cl_2$/Ar Plasma

$Cl_2$/Ar 플라즈마에서 $ZrO_2$ 박막에 첨가된 가스의 식각속도 효과

  • 우종창 (중앙대학교, 전자전기공학부) ;
  • 김동표 (중앙대학교, 전자전기공학부) ;
  • 엄두승 (중앙대학교, 전자전기공학부) ;
  • 김창일 (중앙대학교, 전자전기공학부)
  • Published : 2008.11.19