Remote HF PECVD 공정을 이용한 Textured ZnO 박막증착 Deposition of textured ZnO thin film by using remote HF PECVD

  • 정현영 (군산대학교 신소재공학과, 플라즈마 소재응용 센터) ;
  • 정용호 (국가핵융합연구소 응용기술연구팀) ;
  • 추원일 (군산대학교 신소재공학과, 플라즈마 소재응용 센터) ;
  • 권성구 (군산대학교 신소재공학과, 플라즈마 소재응용 센터)
  • Published : 2009.05.27

Abstract

원격 고주파 원도결합 플라즈마 증착공정을 이용하여 태양광의 반사도를 낮추고, 흡수효율을 개선할 수 있는 피라미드형 표면구조를 가지느니 투명전동성 ZnO 박막을 높은 증착속도로 증착할 수 있는 공정조건을 찾기 위하여 반응압력, $H_{2}O$/DEZn 유량비, 플라즈마 출력과 기판온도에 대하여 실험하였다. 실험결과 400$\sim$600nm/min 이상의 높은 증착속도을 얻을 수 있었으며, 넓은 공정 영역에서 안정적인 피라미드 표면 구조를 가지는 공정조건을 확보하였다. 증착된 박막의 표면구조와 물분석 결과와 공정조건과의 관계에 대한 연구 결과를 발표할 예정이다.

Keywords