Study on ITO:Yb and ITO:Sm films Deposited by Magnetron Sputtering

마그네트론 스퍼터링법에 의해 증착된 ITO:Yb 및 ITO:Sm 박막의 연구

  • 조상현 (부산대학교 재료공학부) ;
  • 이건환 (한국기계연구원 부설 재료연구소) ;
  • 송풍근 (부산대학교 재료공학부)
  • Published : 2009.05.27

Abstract

DC 마그네트론 스퍼터링법에 의하여 ITO, ITO:Yb 및 ITO:Sm의 조성을 가지는 각각의 타겟을 사용하여 상온에서 박막을 증착한 후 후 열처리를 실시하였다. Yb 및 Sm이 첨가된 타겟을 사용하여 증착한 박막의 경우, 미세구조 및 전기적 특성, 표면거칠기 등은 ITO 박막내의 불순물의 함량에 크게 의존한다는 것을 알 수 있었다. 이것은 새로운 불순물의 첨가에 따른 ITO 박막의 결정성의 저하에 기인한다고 생각된다.

Keywords