Syntheses and Properties of Hybrid Functional Ru-TiN heating resistor films prepared by Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition

플라즈마 원자층 증착법을 이용한 하이브라드 기능성 Ru-TiN 허터 박막의 합성 특성 평가

  • 권세훈 (부산대학교 하이브리드소재 솔루션 국가핵심연구센터) ;
  • 정성준 (한국과학기술원 신소재공학과) ;
  • 정영근 (부산대학교 하이브리드소재 솔루션 국가핵심연구센터) ;
  • 강명창 (부산대학교 하이브리드소재 솔루션 국가핵심연구센터) ;
  • 김광호 (부산대학교 하이브리드소재 솔루션 국가핵심연구센터)
  • Published : 2009.05.27

Abstract

플라즈마 원자층 증착법을 이용하여 Ru-TiN 빅막을 합성하였다. 박막 내 Ru의 함량은 Ru의 unit-cycle의 수에 따라 선형적으로 증가하였으며, Ru 함량이 증가함에 따라 박막의 비저항을 $3700{\mu}{\Omega}{\cdot}cm$에서 $190{\mu}{\Omega}{\cdot}cm$까지 자유롭게 조절할 수 있었다. Ru의 함량이 0.40 이상인 경우, Ru과 TiN 두물질이 교차 증착되어 서로의 결정 성장을 충분히 억제함으로서, 비정질구조를 가짐을 확인할 수 있었다. 또한, $O_2$ 분위기에서 열처리를 진행한 결과, Ru의 조성비가 0.40이상인 경우 $700^{\circ}C$까지 면저항의 변화가 거의 없음을 확인할 수 있었다.

Keywords