Effect of plasma pre-treatment on Cu nucleation on atomic layer deposited Ru during metal organic chemical vapor deposition

  • 김선일 (성균관대학교 신소재공학부) ;
  • 문학기 (성균관대학교 신소재공학부) ;
  • 김진성 (성균관대학교 신소재공학부) ;
  • 이내응 (성균관대학교 신소재공학부)
  • Published : 2009.02.11