한국표면공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference)

한국표면공학회 (The Korean Institute of Surface Engineering)
권호 표지

NF3 remote plasma를 이용한 NO/Ar 첨가에 따른 Si 웨이퍼의 Roughness 변화

  • 허욱 (성균관대학교 신소재공학부) ;
  • 안정호 (성균관대학교 신소재공학부) ;
  • 정창룡 (성균관대학교 신소재공학부) ;
  • 이내응 (성균관대학교 신소재공학부)
  • 발행 : 2009.10.14
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