Proceedings of the Korean Institute of IIIuminating and Electrical Installation Engineers Conference (한국조명전기설비학회:학술대회논문집)
- 2009.10a
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- Pages.323-326
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- 2009
Surface Mdification of ITO Film by an Atmospheric Pressure Plasma Treatment
대기압 플라즈마 처리에 의한 ITO 필름의 표면 개질
- Published : 2009.10.09
Abstract
본 연구에서는 대기압 플라즈마의 처리 조건에 따른 ITO 필름의 접착력 향상을 위한 접촉각 및 표면에너지의 변화를 관찰하였다. 대기압 플라즈마의 처리 변수로는 반응 가스, 처리 속도 방전 전압 및 시료와 플라즈마 헤드 사이의 방전 캡이며, 측정된 접촉각을 이용하여 ITO 필름의 표면을 분석하였다. 그 결과는 방전 전압이 증가할수록 접촉각은 낮아졌으며, 시료와 플라즈마 헤드 사이의 방전 간격은 2.5[mm]에서 접촉각이 낮게 나타나 ITO 필름의 접착력 향상을 위한 친수성 물질로 표면 개질됨을 확인할 수 있었다.
Keywords