한국전기전자재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference)
- 한국전기전자재료학회 2010년도 하계학술대회 논문집
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- Pages.386-386
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- 2010
RF magnetron sputtering법으로 증착된 a-IGZO 박막의 산소함량에 대한 특성연구
The characteristic study according to the oxygen content of the A-IGZO thin film prepared by RF Magnetron Sputtering method
- Kim, Jong-Wook (Department of Electronic Engineering, Cheongju University) ;
- Park, Yong-Heon (Department of Physics, Korea Air Force Academy) ;
- Kim, Hong-Bae (Department of Electronic Engineering, Cheongju University)
- 발행 : 2010.06.16
초록
최근의 전자재료들은 산화물 기반의 소자들을 이용하며 이들 소자의 특징은 가시광 영역에서의 높은 투과도와 실리콘 기반의 소자에 비해서 높은 이동도를 나타낸다. 이러한 점을 활용하여 LCD, PDP, 태양전지 등으로의 응용을 위해 활발히 연구되고 있다. 본 연구에서는 비정질임에도 이동도가